能譜儀(國(guó)產(chǎn)）簡(jiǎn)介
EDS2000
品牌：武漢名優(yōu)泰克
前言
能譜儀的國(guó)產(chǎn)設(shè)備替代進(jìn)口迫在眉睫，根據(jù)國(guó)家相關(guān)部門科技維新“十四五”規(guī)劃，經(jīng)過我司開展核心技術(shù)攻關(guān)和產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用研究，于2022年9月在廣東中國(guó)海洋大學(xué)電鏡實(shí)驗(yàn)室投入能譜儀樣機(jī)試用。通過不斷完善和技術(shù)更新，我司生產(chǎn)的X射線能譜儀（EDS）已完成國(guó)產(chǎn)化。
PES可以分為兩類：
X射線能譜儀（EDS），能量分辨率：優(yōu)于129eV（@計(jì)數(shù)率100,000cps）（符合ISO 15632:2012標(biāo)準(zhǔn)）。
紫外線電子譜(UPS)， 能量范圍為10eV～40eV（符合ISO 15632:2012標(biāo)準(zhǔn)）。
主要用途：
1、高分子、陶瓷、混凝土、生物、礦物、纖維等無機(jī)或有機(jī)固體材料分析;
2、金屬材料的相分析、成分分析和夾雜物形態(tài)成分的鑒定;
3、可對(duì)固體材料的表面涂層、鍍層進(jìn)行分析，如：金屬化膜表面鍍層的檢測(cè);
4、金銀飾品、寶石首飾的鑒別，考古和文物鑒定，以及刑偵鑒定等領(lǐng)域;
5、進(jìn)行材料表面微區(qū)成分的定性和定量分析，在材料表面做元素的面、線、點(diǎn)分布分析。
技術(shù)參數(shù)：
1. 能譜儀技術(shù)指標(biāo)
1.1 探測(cè)器：分析型SDD硅漂移電制冷探測(cè)器，30mm2有效面積；高分子超薄窗設(shè)計(jì)，無需液氮冷卻，僅消耗電能。
1.2 能量分辨率：優(yōu)于129eV（@計(jì)數(shù)率100,000cps）。
1.3 元素分析范圍：B5～Cf98；可從面分布圖上進(jìn)行點(diǎn)、線譜圖重建。
1.4 能譜應(yīng)用軟件采用更新的實(shí)時(shí)能譜平臺(tái)，多線程設(shè)計(jì)。
1.5 具備元素譜圖Live功能，獨(dú)立一件顯示電鏡和能譜數(shù)據(jù)；實(shí)時(shí)顯示MinQuant的定量分析結(jié)果。
1.6 具備元素面分布Live功能：在樣品臺(tái)靜止?fàn)顟B(tài)、移動(dòng)及改變放大倍數(shù)時(shí)，均可實(shí)時(shí)顯示電子圖像、不同元素分布以及它們的疊加圖。樣品停止移動(dòng)時(shí)，自動(dòng)開啟面分布圖靜態(tài)采集模式，得到更高清晰度的面分布圖?？衫?span lang="EN-US">AZtec
軟件控制樣品臺(tái)移動(dòng)及改變放大倍數(shù)。
1.7 內(nèi)置Tru-Q引擎，確保定量分析的準(zhǔn)確性；FLS（高帽濾波法）自動(dòng)扣除背底，確定譜峰的位置及峰型；Qcal基于探頭類型修正譜峰峰型，PPC準(zhǔn)確預(yù)測(cè)高計(jì)數(shù)率下的和峰并進(jìn)行修正。
1.8 定量分析：采用XPP定量修正技術(shù)。具有完備的標(biāo)樣數(shù)據(jù)庫(kù)，20kv及5kv高低電壓定量數(shù)據(jù)庫(kù)。
1.9 能譜儀電子圖像更高分辨率達(dá)8192X8192像素；元素面分布圖分辨率更高達(dá)4096X4096像素。
1.10 采用X1脈沖與圖像處理器：可高效進(jìn)行脈沖處理和圖像采集，在1,000,000計(jì)數(shù)率下進(jìn)行元素面分布分析，在100,000計(jì)數(shù)率下進(jìn)行定量分析。
2. 售后服務(wù)
2.1 配備專職的售后工程師。
2.2 能譜儀維修點(diǎn)多，故障維修時(shí)間不超過8小時(shí)。
2.3 質(zhì)保期3年；每增加一年有合理的階梯收費(fèi)標(biāo)準(zhǔn)。
